恩梯梯NTT-AT

納米壓印的填充性好;
在可見光區域的透明性高;
良好的耐光性; 產品適用于AR設備等光學設備。
我們的高折射率樹脂為XR設備的光學設計提供了更大的靈活性。

高折射率:633nm>1.7。可以實現光學部件小型化。
高透光率:即使是高折射率的材料,在波長400nm帶也可以實現90%以上的高透光率。實現高精度加工因為納米壓印無需加熱工序,因此可實現納米級的高精度壓印。
可以選擇使用或不使用溶劑:①含有溶劑的#18210適合制作<1um的薄膜;②不含溶劑的#18247適合制作>2-3um的膜。